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发布时间:2022-04-14 12:50:00 作者:锦城镀膜
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响
靶基距:靶基距是影响成膜速率的重要因素之一,随着靶基距增加,被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多,同时等离子体密度也减弱,动能减少,沉积速率降低,但膜层外观较好。靶基距太小,沉积太快,工件温升大,膜层外观差。
靶功率;磁控溅射本身粒子初始动能比较小,离化率低,电源功率越大,溅射出的粒子的初始能量越大,靶材溅射量也越大,沉积速率越快,膜层容易上厚度和硬度,同时工件温升也大,过高的功率会使沉积速率太快,粒子来不及表面迁移和扩散,易形成阴影效应,膜层会比较疏松,应力较大。靶材为钛,其熔点为1670℃,基体温度应该选择TI/TM=0。
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用普通真空镀膜只能镀直射表面,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。
有机镀膜与无机镀膜的根本区别,目前市场上被称作玻璃系镀膜或石英结晶镀膜的产品几乎都是以含j基的硅氧烷树脂(methylsiloxane)为主要成分的镀膜,镀膜硬化后(有些镀膜甚至无法达到完全硬化),成份中含有大量j基团(CH3),实质为有机硅树脂。这种镀膜剂在使用中,j基团会被紫外线分解,附着在上面的硅元素也随之脱落。镀膜原理阴极真空磁控溅射的特点:膜层厚度均匀、镀膜速度快、基板温度低。这类镀膜剂所标称的耐久性也仅相当于树脂涂层的耐久性,根本无法与不会学化的纯无机糖瞄相捏并论。
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