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佛山***注塑矿工头灯反光杯在线咨询 佛山锦城镀膜公司

发布时间:2022-04-17 02:52:00        作者:锦城镀膜







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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :


1、从沉积粒子能量(中性原子)来看,真空蒸镀为0.1-1eV,溅射为1-10eV,离子镀为0.1-1eV(此外还有高能中性原子)。

2、从沉积速率来看,真空蒸镀为0.1-70μm/min,溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀),离子镀为0.1-50μm/min。





镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。

本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这保证镀膜时反应气体的纯度,从而保证膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3




离子镀时,蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动,习而凡是有电场存在的部位,均能获得良好镀层,这比普通真空镀膜只能在直射向上获得镀层***得多。因此,这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽0窄缝。等其他方法难镀的部位。




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