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发布时间:2022-05-01 02:49:00 作者:锦城镀膜
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
靶基距:靶基距是影响成膜速率的重要因素之一,随着靶基距增加,被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多,同时等离子体密度也减弱,动能减少,沉积速率降低,但膜层外观较好。靶基距太小,沉积太快,工件温升大,膜层外观差。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:靶基距:靶基距是影响成膜速率的重要因素之一,随着靶基距增加,被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多,同时等离子体密度也减弱,动能减少,沉积速率降低,但膜层外观较好。减小占空比有利于抑制打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。靶基距太小,沉积太快,工件温升大,膜层外观差
辉光清洗:对工件施加负偏压,产生辉光放电,利用ya离子轰击工件表面,这种辉光放电清洗作用比较柔和,一般采取由弱到强的轰击清洗顺序,是怕工件太脏时一开始就强轰击,可能产生强烈的打火而损伤工件。
真空镀膜技术优点主要表现在以下几个方面:
1、使塑料表面有导电性;
2、容易清洗,不吸尘。
3、改善美观,表面光滑,金属光泽彩色化,装饰性大大提高;
4、减少吸水率,镀膜次数愈多,愈少,吸水率降低,制品不易变形,提高耐热性。
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