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发布时间:2022-05-03 02:32:00 作者:锦城镀膜
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真空镀膜之多弧离子镀 :
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材料蒸发并电离, 形成金属等离子体。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间,阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。离子镀工艺则有所不同,虽然也是在真空罩内进行的,但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的。
真空镀膜的形式:蒸发镀膜
工艺原理:
4)沉积原子之间产生两维碰撞,形成簇团,有的在表面停留一段时间后再蒸发;
5)原子簇团与扩散原子相碰撞,或吸附单原子,或放出单原子,这种过程反复进行;
6)当原子数超过某一临界值时就变为稳定核,再不断吸附其他扩散原子而逐步长大,后与邻近稳定核合并进而变成连续膜。
溅射镀膜原理:
溅射镀膜是利用溅射现象来达到制取各种薄膜的目的,即在真空室中利用荷能离子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基底上沉积的技术。辉光放电是在10-2Pa-10Pa真空度范围内,在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。它是离子溅射镀膜的基础,即离子溅射镀膜中的入射离子一般利用气体放电法得到。比如含有j基(Me化学式-CH3)的化合物,因成分中含有碳氢基团,都属于有机类物质。
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