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发布时间:2022-05-17 03:13:00 作者:锦城镀膜
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镀膜技术也叫薄膜技术,是在真空条件下采用物理或化学方法,使物体表面获得所需的膜体。镀膜技术是初起源于20世纪30年代,直到70年代后期才得到较大发展的一种技术。在阴极弧斑的前方是高密度的金属等离子体,由于电子向阳极快速移动而使阴极斑点前方出现离子堆积即形成正空间电荷,从而在阴极附近形成极强的电场,导致场电子发射以维持弧光放电。目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域.
电子束蒸发源的优点为:①电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热源更大的能量密度。可以使高熔点(可高达3000°C以上)材料蒸发,并且能有较高的蒸发速度;②由于被蒸发材料是置于水冷堆锅内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对提高镀膜的纯度极为重要;01-100um,并以高达100m/s的速度在阴极靶表面随机运动,也可以利用磁场控制阴极弧斑的运动。③热量可直接加到蒸镀材料的表面,因而热,热传导和热辐射的损失少。
光学薄膜应用反应磁控溅射技术已有多年,中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。
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