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佛山市锦城镀膜有限公司

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广州高反射反光杯价格了解更多「在线咨询」

发布时间:2022-05-21 03:18:00        作者:锦城镀膜







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真空镀膜之磁控溅射镀膜 :

电子的运动路径不仅很长,而且被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,在该区中电离出大量的离子用来轰击靶材,从而实现了磁控溅射沉积速率高的特点。随着碰撞次数的增加,电子的能量逐渐降低,同时逐步远离靶面。低能电子沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场的作用下终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,致使基片温升较低。由于磁极轴线处电场与磁场平行,电子将直接飞向基片。相当于一个从***g中射出的高速***,可以穿入靶体很深,在工件上形成一种附着牢固的扩散镀层。但是在磁控溅射装置中, 磁极轴线处离子密度很低, 所以这类电子很小,对基片温升作用不大。





镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。





镀膜玻璃的特点


1。热反射玻璃的特点:

通过镀不同薄膜,控制对太阳直接辐射的反射、透过和吸收,达到调节热量传递的目的。热反射镀膜玻璃具有各种各样的颜色,热反射玻璃有以下特点:

1能有效控制太阳直接辐射能的入射量。在夏季白天太阳直接照射时,与普通透明玻璃相比,可将向室内传递的太阳辐射热减少15%--70%;

2丰富多采的反射色调和佳的装饰效果;

3良好的遮避作用;

4能减弱紫外光的透过。








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