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真空蒸发镀膜法就是在1.3× 10-2~ 1.3× 103pa(104~10-5Torr）的真空中以电阻加热镀膜材料，使它在极短时间内蒸发，蒸发了的镀膜材料分子沉积在基材表面上形成镀膜层。真空镀膜室是使镀膜材料蒸发的蒸发源，还有支承基材的工作架或卷绕装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子，以便把蒸发制膜的材料转化成气体。镀膜室的真空度、镀膜材料的蒸发速率、蒸发距离和蒸发源的间距，以及基材表面状态和温度等都是影响镀膜层质量的因素。