高反射反光杯镀膜服务介绍「多图」

佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解.

真空镀膜化学成分

厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。其中以水资源的品质为关注重点，因此未来本公司将秉承改造环境，造福社会，为我国经济可继续发展做出贡献。

真空镀膜的工艺特性

纳米级厚度、膜厚均匀。真空镀膜膜层厚度仅数十至数百纳米（一般s0.2um) ，膜层各部位厚度极为均匀。例：镀铝层厚度达0.9nm时就可导电，达到30nm时性能就和固态铝材相同，银镀层小于5nm时不能导电。各塑胶产品本身具有约0.5um的粗糙度，结合条因素故塑胶表面均在镀膜前喷涂UV进行封闭流平，以达到理想的镜面效果。因镀膜层太薄，故对底涂UV材料外观要求近乎苛刻，这就要求涂装室洁净度极高。?旋转零点调节钮“10”，让高压真空表“5”内指针指向0位置。同时产品外观面积越大，不良率就可能就越高（目前奥科生产车间洁净度为10000级，喷涂室、烤箱、镀膜车间洁净度3000级）。

真空镀膜的形式

溅射镀膜（sputtering）：用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。通常将欲沉积的材料制成板材-靶，固定在阴极上，可溅射W. Ta,C,Mo, WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体（0、N等）加入Ar气中，反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上，沉积绝缘膜可采用高频溅射法。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的y气离子化，造成靶与y气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。玻璃晶体本身具有耐高温的特质，能有效反射阳光将外部的热辐射进行有效反射，防止高温对车漆的伤害。一般金属镀膜大都采用直流（DC）溅镀，而不导电的陶瓷材料则使用射频（RF）交流溅镀。