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发布时间:2020-06-04 16:10:00 作者:锦城镀膜
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真空镀膜之多弧离子镀 :
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升,基体可选在250-300℃。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材料蒸发并电离, 形成金属等离子体。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间,阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,增大占空比可以提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;减小占空比有利于抑制打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。可以使高熔点(可高达3000°C以上)材料蒸发,并且能有较高的蒸发速度。
真空度:真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度,用压强表示,压强越低,其稀薄程度越大,真空度越高。镀膜过程中,真空度主要通过控制ya气流量来改变。
反应溅射就是在反应气体环境中镀膜,溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应。普通真空镀膜时,蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀,在工件表面与镀层之间,形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃(10000埃=1微米=0。反应溅射一般沉积不导电的膜层,例如:Snox,ZnOx,Siox,SiNx等。在反应溅射系统中,一般都加入Ar加速反应速度,即提高溅射速率。在反应溅射气氛中,加入工作气体越多,溅射速率越高,当加入的工作气体过多时,反应气体来不急将所有溅射出来的原子反应掉,膜层内就会含有金属,我们把这种状态叫翻转。在反应溅射过程中,无论翻转与正常状态,靶的溅射速率都没有不反应溅射速率高。
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