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发布时间:2020-06-21 09:56:00 作者:锦城镀膜
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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
从膜层特点看,真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差;溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差;离子镀密度大 ,无气孔但膜层缺陷较多,附着性很好,内应力视工艺 条件而定,绕射性较好。真空镀膜之多弧离子镀:多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,这是保证膜色调纯正的重要因素之一。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠近发热棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。
离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。
有机镀膜与无机镀膜的根本区别
目前市场上被称作玻璃系镀膜或石英结晶镀膜的产品几乎都是以含j基的硅氧烷树脂(methylsiloxane)为主要成分的镀膜,镀膜硬化后(有些镀膜甚至无法达到完全硬化),成份中含有大量j基团(CH3),实质为有机硅树脂。这种镀膜剂在使用中,j基团会被紫外线分解,附着在上面的硅元素也随之脱落。镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:靶基距:靶基距是影响成膜速率的重要因素之一,随着靶基距增加,被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多,同时等离子体密度也减弱,动能减少,沉积速率降低,但膜层外观较好。这类镀膜剂所标称的耐久性也仅相当于树脂涂层的耐久性,根本无法与不会学化的纯无机糖瞄相捏并论。
常见的溅射有两种:不反应溅射和反应溅射。不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体,一般使用y气(Ar),称为工作气体。不反应溅射一般都用在镀金属膜层上,导电性能越好的材料,溅射速率越高。
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