真空镀膜灯杯厂家多重优惠,佛山锦城镀膜公司

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真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代l开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。        物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。

真空镀膜的方法很多，计有：

阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的y离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

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