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佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的***生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响： 

基体温度：镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力，温度可用T/Tm值来确定，如；反应溅射就是在反应气体环境中镀膜，溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应。靶材为钛，其熔点为1670℃，基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒组织。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升，基体可选在250-300℃

弧靶电流：弧靶电流越大，靶材蒸发量越大，靶面温度越高，冷却越差，弧靶产生的液滴大颗粒越多，膜层外观越差，膜层中的缺陷越多。

本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率，漏率越大，进入炉内的杂气就越多，不管真空度多高，这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度，会破坏膜层的结合力和膜层颜色的纯度。

镀膜工艺

镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法，镀膜方法有真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶等。下面说一下阴极真空磁控溅射法，通过磁控溅射，在浮法玻璃的表面镀一层或多层金属、或金属化合物薄膜。离子镀的工件为阴极，蒸发源为阳极，进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件，并在工件表面沉积成膜，沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用，粒子的能量决定于阴极上所加的电压。通过镀膜可以改变基片的某些属性，如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。