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物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：

从膜层特点看，真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差；溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差；热反射镀膜玻璃具有各种各样的颜色，热反射玻璃有以下特点：1能有效控制太阳直接辐射能的入射量。离子镀密度大 ，无气孔但膜层缺陷较多，附着性很好，内应力视工艺 条件而定，绕射性较好。

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这保证镀膜时反应气体的纯度,从而保证膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3。

物理q相沉积法真空镀膜技术（由于这种方法基本上都是处于真空环境下进行的，因此称它们为真空镀膜技术）。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。

真空镀膜技术是使置待镀金属和被镀塑料制品位于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。

真空镀膜的形式：蒸发镀膜

工艺原理：

1）在真空室中，膜料被加热变成蒸发原子，蒸发原子在真空条件下不与残余气

体分子碰撞而到达工件表面；

2）蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；

3）吸附原子在基材表面发生表面扩散。