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增强真空镀膜附着力解决方案可采用真空等离子清洗机。此设备是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质，等离子清洗/刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或郭离子的自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉光，等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，达到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有机物，以及其它化学物质，从而达到表面处理、清洗和刻蚀效果，经过等离子处理后，可明显提高膜层附着力，有效提高产品合格率。

真空等离子清洗机主要应用于LED、LCD、连接器、键合前、微电子、电路板、镜片、半导体等大规模生产领域。

从镀膜的原理及特点看，真空蒸镀工件不带电，真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面，沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射的工件为阳极，靶为阴极，利用原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上，沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。离子镀的工件为阴极，蒸发源为阳极，进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件，并在工件表面沉积成膜，沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用，粒子的能量决定于阴极上所加的电压。

真空镀膜基本方法 ：

从被沉积物质的气化方式看，真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等；溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发，而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子；离子镀可以分为蒸发式或者溅射式，蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等，溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供，反应物沉积在基片上。

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在真空条件下利用某种方法，在固体表面上镀一层与基体材料不同的薄层材料，也可以用固体本身生成一层与基体不同的薄层材料。这就是真空镀膜技术。在固体表面上镀上一层薄膜，就能使该基体材料具有许多新的物理和化学性能。因此，真空镀膜技术又称表面改性技术。