东莞LED灯反光杯厂家诚信企业推荐 佛山市锦城镀膜

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镀膜技术也叫薄膜技术，是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得所需的膜体。镀膜技术是初起源于20世纪30年代，直到70年代后期才得到较大发展的一种技术。5）原子簇团与扩散原子相碰撞，或吸附单原子，或放出单原子，这种过程反复进行。目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域.

离子镀工艺则有所不同，虽然也是在真空罩内进行的，但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的。也就是说，蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。相当于一个从***g中射出的高速***，可以穿入靶体很深，在工件上形成一种附着牢固的扩散镀层。它是离子溅射镀膜的基础，即离子溅射镀膜中的入射离子一般利用气体放电法得到。

镀膜原理

阴极真空磁控溅射的特点：膜层厚度均匀、镀膜速度快、基板温度低。溅射镀膜利用2个原理：辉光放电、连续撞击。溅射过程是建立在气体放电基础上的，放电从低压下开始的，气体离子与靶材相互作用，离子不断的撞击靶表面，靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片（玻璃）上沉积下来，凝结成一层薄膜。镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：镀膜时间：膜层厚度随镀膜时间的增加而增加,但不是线形增加,当厚度达到一定的时候,增加速度会变慢***基本停止,而且镀膜时间越长膜层应力越大。