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发布时间:2021-11-18 19:51:00 作者:锦城镀膜
膜层具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致,大幅度提高工件的外观装饰性能。膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.2μm ~ 5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.2μm ~ 2μm ,因此真空镀膜厂家可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能。膜层抵抗力强,在常规环境下具有、,不失去光泽、耐磨损、耐刮擦、不易划伤,且可镀材料广泛,与基体结合力强。
真空镀膜技术可使用的材料广泛:可作为真空镀膜材料有几十种,包括金属、合金和非金属。真空镀膜技术性能优良:真空镀膜厚度远小于电镀层,但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好,孔隙率低,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。
待真空镀膜电镀的素材必须达到以上表面要求,才能进炉真空炉体内电镀。一般情况下,素材表面在满足使用的条件下,表面光洁度越好,膜层结合力越好,效果也越好。
真空镀膜技术可使用的材料广泛:可作为真空镀膜材料有几十种,包括金属、合金和非金属.真空镀膜加工还可以加工出多层结构的复合膜,满足对涂层各种不同性能的需求。膜层具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致,大幅度提高工件的外观装饰性能。工程车辆反光杯加工厂家
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摩擦系数较低,耐腐蚀性较好,耐磨性和抗冲击性良好。阴极电弧离子镀具有高的靶电离率和强的膜基键合力的优点,但是在沉积过程中产生了许多大颗粒,这影响了膜的表面粗糙度。磁控溅射具有成膜粗糙度小,无大颗粒,光滑均匀的特点。然而,反应磁控溅射具有高反应性气体或金属靶的电离率,并且所获得的膜往往具有许多空隙和缺陷,这倾向于导致不充分和致密的膜结构和差的耐腐蚀性。目前,两种技术主要用于去除大颗粒污染。第二种是在运输过程中对液体颗粒进行磁过滤。过滤阴极真空电弧沉积是一种磁场,引导等离子体绕过障碍物,而大颗粒由于电中性而与障碍物碰撞,从而去除大颗粒并避开薄膜。
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