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发布时间:2021-12-03 01:31:00 作者:锦城镀膜
膜层具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致,大幅度提高工件的外观装饰性能。膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.2μm ~ 5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.2μm ~ 2μm ,因此真空镀膜厂家可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能。膜层抵抗力强,在常规环境下具有、,不失去光泽、耐磨损、耐刮擦、不易划伤,且可镀材料广泛,与基体结合力强。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。真空镀膜技术可使用的材料广泛:可作为真空镀膜材料有几十种,包括金属、合金和非金属.真空镀膜加工还可以加工出多层结构的复合膜,满足对涂层各种不同性能的需求.
镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
随着科技的进步和精密仪器的应用,薄膜厚度测量方法有很多,按照测量的方式分可以分为两类:直接测量和间接测量。直接测量指应用测量仪器,通过接触(或光接触)直接感应出薄膜的厚度。
镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。薄膜和基体选材广泛,薄膜厚度可进行控制,以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。
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