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发布时间:2021-12-27 09:39:00 作者:锦城镀膜
真空镀膜就是指在真空下,将某类金属材料或金属化合物以液相的方式沉积到原材料表面(一般 是非金属材质),归属于物理学液相沉积加工工艺。
真空镀膜的作用是各个方面的,这也决策了其运用场所比较丰富。整体而言,真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表面高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果,在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性,出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。
镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。
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真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,生产提供薄膜制备的一种新工艺。
真空镀膜大致需要以下步骤:1. 注塑工件经过静电除尘后上架。
2. 上架后放入真空镀膜机内抽真空。
3. 当真空抽至接近真空状态,再对产品进行轰击除去产品表面的微粒,以达到产品表面的光洁,此次轰击保证产品与真空铝膜牢固附着。
4. 轰击完成后,继续抽真空,再进行放电熔铝,再将熔化的铝膜蒸发至产品表面(此时产品表面已经均匀附着了一层明亮如镜的铝膜)。
5. 将硅油放入真空镀膜腔中,进行等离子轰击,使其变性,形成氧化硅,二氧化硅保护层。
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