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佛山市锦城镀膜有限公司

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LED反光杯注塑订做行业***在线为您服务「多图」

发布时间:2020-04-29 10:58:00        作者:锦城镀膜






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从镀膜的原理及特点看,真空蒸镀工件不带电,真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面,沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射的工件为阳极,靶为阴极,利用原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上,沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠近发热棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。离子镀的工件为阴极,蒸发源为阳极,进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件,并在工件表面沉积成膜,沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用,粒子的能量决定于阴极上所加的电压。


真空镀膜的形式:蒸发镀膜

工艺原理:

1)在真空室中,膜料被加热变成蒸发原子,蒸发原子在真空条件下不与残余气

体分子碰撞而到达工件表面;

2)蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;

3)吸附原子在基材表面发生表面扩散。


反应溅射就是在反应气体环境中镀膜,溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应。反应溅射一般沉积不导电的膜层,例如:Snox,ZnOx,Siox,SiNx等。真空镀膜技术在塑料制品上的应用***,真空镀膜机厂表示,塑料具有易成型,成本低,质量轻,不腐蚀等特点,塑料制品应用广泛,但因其缺点制约了扩大应用。在反应溅射系统中,一般都加入Ar加速反应速度,即提高溅射速率。在反应溅射气氛中,加入工作气体越多,溅射速率越高,当加入的工作气体过多时,反应气体来不急将所有溅射出来的原子反应掉,膜层内就会含有金属,我们把这种状态叫翻转。在反应溅射过程中,无论翻转与正常状态,靶的溅射速率都没有不反应溅射速率高。


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