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真空镀膜的原理是基于物理气相沉积（Physical Vapor Deition，简称PVD）技术，即在真空环境下，利用各种物理方法如电子束蒸发、激光束蒸发、离子束溅射等将材料加热至熔点或升华点以上，使其形成蒸汽流并沉积在基底表面，终形成薄膜。

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