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真空镀膜厂家与您分享提高PVD镀膜基底温度可以去除挥发性残留物，增强表面扩散和再结晶能力。界面反应加速，特种灯具反光杯，底层杂质扩散。基质融化了。增加晶体颗粒的大小。促进再结晶界面的外延生长、降低内应力、增加阶梯覆盖率以及增加与衬底相互作用所需的涂层温度取决于工件的金相结构、热处理、工件几何形状，例如锐边、薄板的快速加热以及温度测量非常困难。电弧电流、基体偏压和反应压力也会影响温度。涂层可在180℃开始。工件应在不会引起材料物理变化的温度下进行涂覆。

普通大灯反光杯里面的那个叫遮光罩，也可以叫反光罩，其作用是将前进方向的光源进行集中反射到反光碗，使灯光看起来更聚光。

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pvd真空镀膜炉与您分享PVD涂层是指在真空条件下使用低电压、大电流电弧放电技术，使用气体放电来蒸发目标并电离蒸发的物质和气体，以及使用电场加速将蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上。PVD涂层是一个复杂的过程，特别是应用于工具和模具的PVD涂层要求涂层的所有方面都有很高的性能。在涂布过程中，许多因素会影响涂层的性能。